제품 정보 및 가격 문의
연구 요구에 맞춘 전문가 상담과 맞춤형 솔루션을 받아보세요
2006 • Proceedings of Conf. on Ion Implant Technology IIT 2006), Marseille, France, CP866, Ion Implantation technology, American Inst. Of Physics, 534-537.
본 논문에서는 이온 주입–어닐링 공정을 함께 특성 분석할 수 있도록 최적화된 접합 광전압(JPV) 방법을 사용하여 얻은 결과를 제시합니다. 해당 장비는 초박막 접합 시트 저항 및 누설 측정에 특히 적합한 것으로 확인되었습니다. 본 연구에서는 또한 기존 장비 설계 대비 향상된 공간 해상도의 이점을 평가하였습니다. 현재 기술 수준의 USJ 모니터 웨이퍼는 BF2 또는 비소 이온 주입 후 스파이크 어닐링을 통해 제작되었으며, 연구개발용 USJ 웨이퍼는 플라즈마 이온 주입 후 레이저 어닐링을 통해 제작되었습니다. 모든 웨이퍼는 비접촉식 JPV 측정 장비를 사용하여 측정되었습니다. JPV 측정 결과는 파괴 분석 기반 오프라인 분석 장비 결과와 상관관계를 보였습니다.
E. Don, A. Pap, T. Pavelka, P. Tüttő, C. Wyon, C. Laviron, R. Oechsner, M. Pfeffer