
含有直徑超過 50 nm 奈米孔的薄膜的表徵提出了重大挑戰,特別是在部署基於吸附的技術時。 由於樣品製備和無損檢測的限制,傳統的體積物理吸附或壓汞方法在薄膜中的適用性有限。 在這種情況下,橢圓偏振孔隙率測定法利用其對薄膜的光學敏感性,成為可行的替代方案。 對於依賴諸如水之類的揮發性化合物的毛細管冷凝的現有裝置,其適用性通常限於小於50nm的孔尺寸。 在這項研究中,我們引入了兩種高摩爾質量碳氫化合物吸附劑,即乙苯和n-壬烷。 這些吸附劑在提高中孔性(即>50nm)以外的物理吸附測量的準確性方面表現出巨大的潛力。 具體來說,使用n-壬烷,適用性可擴展至 80 nm 孔徑。 我們的測量指南提出了一種無損、快速(<60 分鐘)、低壓(<0.03 bar)的方法來研究奈米多孔薄膜對不同結構系統的潛在適應性。
Máté Füredi, Cristina V. Manzano, András Marton, Bálint Fodor, Alberto Alvarez-Fernandez,*
See our related products to this publication: