
氧沉澱物、空洞和其他缺陷的檢測對於半導體晶圓製造商至關重要。 Semilab 的光散射斷層掃描 (LST) 系統是檢測這些塊狀微缺陷 (BMD) 的業界標準技術之一。 在此測量中,未圖案化的晶圓名義上被劈成兩半。 照明應用於樣品的前表面,並且從缺陷散射的光通過解理表面收集。 該技術僅限於測量未圖案化的晶圓,但設備製造商對使用基於散射的技術測量圖案化晶圓上的 BMD 分佈表現出濃厚的興趣。 晶圓表面上的圖案可能會導致明顯的散射,使標準 LST 技術不適合這項任務。 我們透過在標準 LST 系統中添加低角度照明單元,提出了一種用於圖案化晶圓 BMD 測量的解決方案。 這種新型照明裝置透過裂開的表面將光聚焦到晶圓的主體上,從而能夠對圖案化的樣品進行測量。 新系統被稱為「低角度照明增強的光散射斷層掃描儀」。 低角度和標準LST照明模式偵測到的缺陷密度之間有良好的相關性。
T. Szarvas, G. Molnár, Gy. Nádudvari, Sz. Tóth, O. Almásy, Sz. Spindler, D. Erdei, Sz. Pothorszky, R. Kretschmer, and S. Bauer