利用臭氧去離子水生長的氧化矽層改善矽表面鈍化

在有和沒有使用臭氧去離子水形成的薄氧化矽 (SiOx) 層的情況下，研究了氮化矽 (SiNx)、氧化鋁 (AlOx) 和 AlOx/SiNx 疊層的鈍化品質。 壽命測量顯示，在存在氧化物的情況下，AlOx/SiNx 堆疊的有效載子壽命 (τeff) 約為 3ms。 低飽和電流密度 (Jo) 和界面陷阱密度 (D_it) 證實並解釋了該樣品的高 τ_eff。 由於場效應鈍化和化學鈍化，AlOx/SiNx 堆疊可以提供出色的表面鈍化。 請注意，氧化物的存在對於實現良好的鈍化也顯示出至關重要的影響。