使用 PMR-C 技術對 Si 和 SiC 晶圓中的離子注入製程進行多功能監控

光調變反射 (PMR) 技術廣泛用於監測 Si 晶圓中的離子注入過程，Semilab Ltd 正在持續開發適用於 SiC 晶圓的工具。在這項工作中，我們展示了我們的 Semilab PMR-2200C 設備測量的結果，該設備主要用於離子注入 SiC 晶圓監測。 此外，同一設備也適用於有效監控離子注入矽晶圓。 在適當的測量條件下，對於 SiC 和 Si，可以在寬劑量範圍內觀察到 PMR 訊號與注射劑量（例如損傷量）的單調趨勢。 因此，PMR是一種有效的非破壞性、非接觸式工具，用於對注入晶圓進行高通量製程監控。