我们展示了在先进 DRAM 生产晶圆的有源电容器单元区域中的 ZrO2/Al2O3/ZrO2 (ZAZ) 电介质堆栈上采集的微电晕 - 开尔文数据。 具体来说,我们将在图案化晶圆上测量的微 SASS(自调节稳态)电压数据与在 ZAZ 电介质叠层上类似获取的数据进行比较。 通过比较,我们制定了一个模型,将有源区域微 SASS 电压解释为与 ZAZ 电介质叠层电容成正比。 该方法和随附模型的验证是通过测量生产基线来进行的,该生产基线显示了对各种过程偏差的敏感性。 通过将在线活性单元面积微型 SASS 数据与末端电气参数测量电容和击穿电压数据进行比较,可以实现进一步的验证。 我们还证明,该方法(包括电晕充电和有源器件区域的测量)不会对最终器件良率产生不利影响。
J.H. Kim, C.H. Kim, H.W. Yoo, H.L. Kim, S.H. Son, C.H. Lee, T.K. Kim, J. D’Amico, M. Wilson, M. Wilson, S.H. Kim, S.H. Park