具有化学钝化表面的硅的原位整体寿命测量

通过应用原位化学表面钝化，传统的光电导衰变寿命测量技术被扩展为测量整个硅片上的体寿命图。 通过比较基于氧化和化学钝化表面的测量的寿命图以及复合中心浓度与少数载流子寿命之间的线性相关性，证明了该技术的适用性。

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