Japanese Journ. of Applied Physics, 30, No.12B, 3630-3633

注入级光谱：一种新型的非接触式硅污染分析技术

Abstract

微波光电导衰减是根据激发光强度的函数来测量的。提出了一种利用新方法分析复合寿命数据的实验方法，该方法能够生成硅晶片中不同金属污染物的定性横向分布图。

contamination analysisSilicon (Si)

G. Ferenczi, T. Pavelka, P. Tüttő