推出了一种新颖的光学反射测量解决方案,能够在基于独立便携式前开统一 Pod (FOUP) 的紧凑型计量系统 Metrology-FOUP (M-FOUP) 系统中测量 300mm Si 晶圆上的平面、毯式薄膜。 通过演示对代表工艺设备典型日常鉴定的样品上无图案薄膜厚度的测量,展示了新仪器的关键应用。 提供了来自半导体生产工厂的特征样品的基准数据,以及将测试结果与传统(独立)计量工具测量的结果进行比较。
Arpad Jakab, John Byrnes, Laszlo Makai, Audrey Engelsberg, Andrew Findlay, Alok Vaid, Nicholas Pieniazek, John Barker, Jeffrey Wood, Peter Rutka, Peter Basa, Jack Downey