通过光调制反射测量来监测低能离子注入过程的倾斜角和剂量率

光调制反射率测量提供了一种强大的、非接触式、非破坏性和内联兼容的方法，具有低成本操作，用于监视器和产品晶圆上离子注入步骤的统计过程控制。 我们提供的案例研究描述了如何使用光调制反射率测量 (PMR) 进行离子注入剂量、注量和倾斜角监测，并具有出色的分辨率，甚至适用于低能量离子注入工艺。 这一点很重要，因为精确的掺杂剂和损伤分布控制对于利用浅结和复杂 3D 掺杂分布的最先进半导体工艺至关重要。