Ballistic Electron Emission Microscopy of Schottky Diodes on RF-Plasma-Treated Silicon
作者: L. Quattropani, K. Solt, P. Niedermann, I. Maggio-Aprile, O. Fischer, T. Pavelka
主題: Schottky diode; RF plasma treated silicon

• 樣品尺寸:200 毫米
• 樣品厚度:<18 毫米
• 樣品 XY 軸移動範圍:200 x 250 毫米
• 掃描器:平面掃描器
掃描區域客製化選項:
• 軟體:量測控制與分析軟體
AFM-2000 原子力顯微鏡
作者: L. Quattropani, K. Solt, P. Niedermann, I. Maggio-Aprile, O. Fischer, T. Pavelka
主題: Schottky diode; RF plasma treated silicon
作者: Katalin Csonti, Csilla Fazakas, Kinga Molnár, Imola Wilhelm, István A. Krizbai, Attila G. Végh
主題: adhesion assay; Zeiss AFM; single-cell force spectroscopy
作者: D. Marinskiy, P. Edelman, A.D. Snider
主題: Kelvin force microscopy; corona charge; concentration profile; surface diffusion
作者: Dmitriy Marinskiy, Patrick Polakowski, Jacek Lagowski, Marshall Wilson, Piotr Edelman, Johannes Müller
主題: corona - Kelvin; Non-Contact Measurement; THIN FILM CHARACTERIZATION
作者: P.M. Nagy, D. Aranyi, P. Horváth, G. Pető, E. Kálmán
主題: nanoindentation; Ion Implantation; mechanical properties; AFM
作者: Bálint Szentpéteri; Albin Márffy; Máté Kedves; Endre Tóvári; Bálint Fülöp; István Kükemezey; András Magyarkuti; Kenji Watanabe; Takashi Taniguchi; Szabolcs Csonka; Péter Makk
主題: Pressure effects; Quantum Hall effect; Spin-orbit coupling; Weak antilocalization; Bilayer graphene; Graphene; Heterostructures; Transition metal dichalcogenides; Shubnikov-de