RF 플라즈마 처리된 실리콘의 쇼트키 다이오드의 탄도 전자 방출 현미경
저자: L. Quattropani, K. Solt, P. Niedermann, I. Maggio-Aprile, O. Fischer, T. Pavelka
주제: Schottky diode; RF plasma treated silicon

• 시료 크기: 200mm
• 시료 두께: <18mm
• 시료 XY 이동 범위: 200x250mm
• 스캐너: 평면 스캐너
스캔 영역 사용자 지정 옵션:
• 소프트웨어: 측정 제어 및 분석 소프트웨어
AFM-2000 원자힘 현미경
저자: L. Quattropani, K. Solt, P. Niedermann, I. Maggio-Aprile, O. Fischer, T. Pavelka
주제: Schottky diode; RF plasma treated silicon
저자: Katalin Csonti, Csilla Fazakas, Kinga Molnár, Imola Wilhelm, István A. Krizbai, Attila G. Végh
주제: adhesion assay; Zeiss AFM; single-cell force spectroscopy
저자: D. Marinskiy, P. Edelman, A.D. Snider
주제: Kelvin force microscopy; corona charge; concentration profile; surface diffusion
저자: Dmitriy Marinskiy, Patrick Polakowski, Jacek Lagowski, Marshall Wilson, Piotr Edelman, Johannes Müller
주제: corona - Kelvin; Non-Contact Measurement; THIN FILM CHARACTERIZATION
저자: P.M. Nagy, D. Aranyi, P. Horváth, G. Pető, E. Kálmán
주제: nanoindentation; Ion Implantation; mechanical properties; AFM
저자: Bálint Szentpéteri; Albin Márffy; Máté Kedves; Endre Tóvári; Bálint Fülöp; István Kükemezey; András Magyarkuti; Kenji Watanabe; Takashi Taniguchi; Szabolcs Csonka; Péter Makk
주제: Pressure effects; Quantum Hall effect; Spin-orbit coupling; Weak antilocalization; Bilayer graphene; Graphene; Heterostructures; Transition metal dichalcogenides; Shubnikov-de
AFM-2000 원자힘 현미경