microPL, JPV, photo-modulated reflectance2023
Si에서 이온 채널링 및 공동 주입이 이온 범위 및 손상에 미치는 영향: PL, SRP, SIMS 및 MC 모델을 이용한 연구
저자: Samu Viktor, Kerekes Árpád, Pongrácz Anita, Durkó Zsolt
주제: microPL; JPV; photo-modulated reflectance
간행물 읽기

• 공정 제어: 반도체 공장의 고급 공정 모니터링 및 튜닝
• 오류 분석: Si 장치 문제 해결을 위한 정확한 도펀트 및 저항률 프로파일링
• 연구 및 개발: 다층 및 화합물 반도체 구조 프로파일링
• 특성화: 접합부, 전이 영역 및 다층 스택의 깊이 프로파일링
SRP-2100 / SRP-2100i 확산 저항 프로파일링
저자: Samu Viktor, Kerekes Árpád, Pongrácz Anita, Durkó Zsolt
주제: microPL; JPV; photo-modulated reflectance
저자: E. E. Najbauer, L. Sinkó, Sz. Biró, Z. Durkó, P. Basa
주제: carrier density; epitaxial layer; semiconductor; Silicon (Si); SRP-2100; SRP; FTIR REFLECTOMETRY
SRP-2100 / SRP-2100i 확산 저항 프로파일링