ザの DPP-1000 手動式のコンタクトベースです 4点プローブ 以下の目的で設計された測定ツール 抵抗率、エミッタシート抵抗、ドーピング密度の正確な測定 半導体ウェーハ、薄膜、太陽電池に使用されています。業界標準の参考技術として、太陽光発電 (PV) および半導体の研究開発分野で広く使用されています。

  • 薄膜半導体、TCO、金属層の正確なシート抵抗測定
  • I-V 曲線の特性評価
  • 試料材料:Si、エピタキシャル層、Si上に金属/注入層
  • 太陽電池におけるエミッタ層のシート抵抗測定
  • 太陽光発電業界、薄膜抵抗測定、研究開発で広く使用されています
  • Semilabの信頼性とサポートを備えた業界標準の4点プローブ法
  • 測定原理:
    4点プローブ (4PP)ドーピング密度、抵抗率、またはエミッタシートの抵抗値を監視するために広く使用されている接触技術です。電圧電極と電流電極を分離することで、測定結果から接触抵抗の影響がなくなります。使用する電圧が限られているため、抵抗率が高い範囲では測定可能な電流が非常に小さくなり、測定が制限されます。
  • 高い測定精度と優れた再現性
  • キャリブレーションが不要な絶対基準測定技術
  • この技術はJPVヘッドとEddyヘッドのキャリブレーションに使用されます
  • わかりやすいグラフィカルユーザーインターフェイスによる迅速で簡単な操作
  • 通常の使用で長寿命の耐久性に優れたTCプローブチップ
  • 多用途:シリコンウェーハ、太陽電池、金属、TCO、その他の薄膜層を含む幅広い材料を扱うことができます
  • サンプル互換性:
    • 半導体ウェーハ、バルクシリコン、インプラントシリコン、シリコンサンプル上の拡散層、薄膜、金属層(例:ガラスまたはシリコン基板上のAI、透明導電性酸化物 (TCO)、酸化インジウムスズ (ITO)
    • 最大サンプルサイズ:210 × 210 ミリメートル (M12 PV スタンダード)
    • 非標準ウェーハサイズを測定できます
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FPP-1000 4ポイント・プローブ測定

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