SRP-170拡散抵抗プロファイリング

• シリコンエピタキシャル層のドーパント濃度と抵抗率プロファイリング
• イオン注入のプロセスモニタリング
• 最終デバイスの実際の構造と接合深度の測定
• 費用対効果の高いプロファイリングを必要とする研究と教育

• 価値と柔軟性:消耗品コストが低く、教育や研究開発用途に最適
• 効果的で高品質な防振・遮音性を備えたコンパクトな設置面積
• 手動でのサンプルローディングとステージアライメント、X軸電動式
• 完全な測定制御を実現するタッチ駆動型の使いやすいインターフェース
• スタンドアロンのベベルサンプル研磨ユニット
• オプション:
  
  • ベベル角測定 (BAM): 正確なベベル角度と深さプロファイリング用のレーザーセンサー

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測定パラメーター:

• ドーパント濃度と抵抗率
• キャリア密度と抵抗率プロファイルの形状
• 接合部の深さ
• トランジション幅
• 電気的に活性化された線量

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