2001
Jpn。J. アップル物理学。第 40 巻 (2001) ページL1003-L1004、パート2、10A号、2001年10月1日

キンヒドロン/エタノール処理によるシリコン基板の表面パッシベーション効果

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Abstract

キンヒドロン/エタノール処理によるシリコン基板の表面パッシベーションの新しい技術が研究されました。表面パッシベーション効果を推定するために、マイクロ波光伝導減衰法を用いてシリコン基板の寿命を測定しました。測定された寿命は、クインヒドロンの濃度とパッシベーション時間に依存していました。0.01 モル/デシベル3 キンヒドロネ/エタノール処理は良好な不動態化効果を示し、非常に低い表面再結合速度が得られました。キンヒドロロン/エタノール処理は、ヨウ素/エタノール処理よりも効果的なパッシベーション技術でした。したがって、キンヒドロロン/エタノールパッシベーションは寿命測定に広く使用できます。

Topic

表面パッシベーション、キンヒドロン・エタノール処理、マイクロ波光伝導減衰 (μ-PCD)

Author

高藤秀樹、坂田一郎、下川良夫

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